Lasertec Corporation occupe une place spécialisée dans l’industrie des semiconducteurs : détecter les défauts susceptibles de compromettre la fabrication des circuits intégrés. Installée à Yokohama, au Japon, l’entreprise développe des systèmes optiques d’inspection et de mesure utilisés notamment pour contrôler les masques de lithographie. Ces derniers portent les motifs qui sont transférés sur les tranches de silicium au cours de la fabrication des puces.
Des racines dans l’optique et l’électronique
Les origines de Lasertec remontent à 1960. L’entreprise construit progressivement son savoir-faire à la croisée de l’optique, de l’électronique et du traitement d’image, avant d’adopter le nom Lasertec en 1986. Le contrôle des photomasques devient l’un de ses principaux domaines de spécialisation, parallèlement au développement d’instruments de microscopie laser.
Cotée à la Bourse de Tokyo, la société accompagne l’évolution des procédés de fabrication des semiconducteurs. À mesure que les motifs se miniaturisent, les exigences de détection augmentent : un défaut difficile à observer peut se reproduire sur de nombreux circuits. Cette contrainte donne aux équipements d’inspection un rôle essentiel dans la maîtrise des rendements industriels.
Contrôler les masques, avant que les défauts ne se propagent
Lasertec fournit notamment des systèmes d’inspection des substrats de masques, appelés « mask blanks », et des masques comportant déjà les motifs des circuits. Ses clients comprennent des fabricants de masques et des industriels des semiconducteurs. L’objectif est de repérer les anomalies suffisamment tôt pour éviter qu’elles n’affectent les étapes suivantes de production.
La lithographie en ultraviolet extrême, ou EUV, constitue un axe majeur de son activité. Contrairement aux masques conventionnels fonctionnant par transmission, les masques EUV reposent sur une structure réfléchissante multicouche. Leur contrôle demande des méthodes adaptées. Lasertec développe des équipements d’inspection dits actiniques, qui utilisent une lumière de même longueur d’onde que celle employée pour la lithographie. Cette approche permet de mieux évaluer certains défauts dans des conditions pertinentes pour leur utilisation industrielle.
Son portefeuille comprend également des solutions d’inspection de matériaux et de tranches destinés aux semiconducteurs de puissance, notamment en carbure de silicium, ainsi que des microscopes laser. Le point commun de ces activités reste la caractérisation précise de surfaces et de défauts, grâce à l’association d’instruments optiques et de logiciels d’analyse.
Et maintenant ?
La poursuite de la miniaturisation et le déploiement de l’EUV à grande ouverture numérique renforcent les besoins de contrôle des masques. Pour Lasertec, l’enjeu consiste à améliorer simultanément la sensibilité de détection, la vitesse d’inspection et la fiabilité des équipements en production.
Cette trajectoire demeure liée aux cycles d’investissement des fabricants de semiconducteurs et au calendrier d’adoption des nouveaux procédés. Les restrictions commerciales affectant les équipements de fabrication constituent également un point de vigilance. La capacité à transformer ses travaux de recherche en outils qualifiés chez les clients restera déterminante pour son développement.