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AIXTRON SE, los equipos detrás de los semiconductores compuestos

L’essentiel

Con sede en Alemania, AIXTRON SE diseña equipos de deposición de materiales destinados a la fabricación de semiconductores compuestos. Sus tecnologías contribuyen, entre otras aplicaciones, al desarrollo de la electrónica de potencia, las comunicaciones y la optoelectrónica.

À retenir

Con sede en Alemania, AIXTRON SE diseña equipos de deposición de materiales destinados a la fabricación de semiconductores compuestos. Sus tecnologías contribuyen, entre otras aplicaciones, al desarrollo de la electrónica de potencia, las comunicaciones y la optoelectrónica.


AIXTRON SE opera en las etapas iniciales de la cadena de fabricación electrónica: la empresa no produce chips, sino las máquinas que permiten hacer crecer algunas de sus capas activas. Con sede en Herzogenrath, cerca de Aquisgrán, en Alemania, suministra sistemas de deposición a fabricantes de semiconductores y organismos de investigación. Su posicionamiento se basa principalmente en los materiales compuestos, cuyas propiedades responden a necesidades que el silicio no siempre cubre con la misma eficacia.

Un origen arraigado en la investigación alemana

Fundada en 1983 a partir de investigaciones de la Universidad Técnica RWTH de Aquisgrán, AIXTRON se desarrolló en torno a la epitaxia, es decir, el crecimiento controlado de capas cristalinas sobre un sustrato. Esta etapa es determinante para obtener las características eléctricas u ópticas deseadas en un componente. La empresa trasladó progresivamente sus equipos de los laboratorios a las líneas de producción industrial.

Tras salir a bolsa en Fráncfort en 1997, se internacionalizó con el auge de los semiconductores compuestos, especialmente en Asia. Su historia está estrechamente ligada a la de los LED y, posteriormente, a la diversificación de los usos de estos materiales en los láseres, las comunicaciones y la conversión de energía.

Reactores para controlar las capas de materiales

El núcleo de la oferta de AIXTRON comprende equipos de deposición química en fase de vapor con precursores metalorgánicos, o MOCVD. En estos reactores, los precursores químicos permiten depositar capas extremadamente finas, controlando su composición y homogeneidad. La empresa también ofrece sistemas de deposición química en fase de vapor adaptados al carburo de silicio.

Entre los materiales utilizados figuran el nitruro de galio, el arseniuro de galio y el carburo de silicio. Sus aplicaciones difieren: componentes de potencia para vehículos eléctricos e infraestructuras energéticas, dispositivos de radiofrecuencia, láseres para transmisiones ópticas o LED y microLED para pantallas. Así, AIXTRON participa en varios mercados sin depender de una única arquitectura de chip.

Para sus clientes, el reto va más allá del rendimiento de un material en el laboratorio. Es necesario reproducir los resultados en lotes de sustratos, limitar los defectos y controlar los costes de producción. Por tanto, el valor de los equipos también reside en su productividad, su estabilidad y su integración en los procesos industriales. Los servicios, el mantenimiento y el soporte técnico complementan la venta de las máquinas.

¿Y ahora?

Las perspectivas de AIXTRON dependen, en particular, de la adopción del nitruro de galio y del carburo de silicio en la electrónica de potencia. La electrificación del transporte, la conversión de energía eléctrica y las necesidades energéticas de los centros de datos constituyen posibles motores de crecimiento. Los microLED representan otra vía, cuyo calendario sigue vinculado a las dificultades de industrialización y a los costes.

Esta exposición conlleva un marcado carácter cíclico: los pedidos siguen las inversiones en capacidad de los fabricantes de componentes. Para AIXTRON, el reto consiste en adaptar sus plataformas a la evolución de los formatos de sustratos y a las exigencias de rendimiento de fabricación, al tiempo que se ajusta a las restricciones comerciales y geopolíticas que afectan a la industria de los semiconductores.

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